Mašina, kuri leis sukurti rytojaus AI lustus, ką tik paskelbta paruošta masinei gamybai – ir oficialiai prasidėjo kito pramonės šuolio laikrodis. ASML, Nyderlandų įmonė, turinti pasaulinį komercinės ekstremalios ultravioletinės litografijos įrangos monopolį, šią savaitę patvirtino, kad jos aukštos NA EUV įrankiai peržengė slenkstį nuo techniškai įspūdingų iki tikrai paruoštų gamybai.
Skelbimas buvo paskelbtas išskirtinai Reuters ASML vyriausiasis technologijų pareigūnas Marco Pietersas prieš techninę konferenciją San Chosė.
Dabartinės kartos EUV aparatai artėja prie išorinio krašto, kurį jie gali padaryti pažangiai dirbtinio intelekto lustų gamybai, o tai reiškia, kad puslaidininkiai, maitinantys didelių kalbų modelius, ir AI greitintuvai atsitrenkia į fizines lubas. Didelės NA EUV įrankiai yra sukurti taip, kad jį peržengtų, leidžiant lustų gamintojams spausdinti smulkesnius ir tankesnius grandinės raštus atliekant mažiau žingsnių. Tai tiesiogiai paverčia galingesniais ir efektyvesniais lustais, skirtais dirbtinio intelekto darbo krūviams.
„Manau, kad svarbu pažvelgti į įvykusių mokymosi ciklų skaičių“, – sakė Pietersas. Reutersatsižvelgiant į klientų atliktų bandymų, kuriuos dabar sukaupė mašinos, apimtį.
Svarbūs skaičiai
ASML pasirengimas grindžiamas trimis duomenų taškais, kuriuos ji planuoja paskelbti viešai. „High-NA EUV“ įrankiai dabar apdorojo 500 000 silicio plokštelių, pasiekė maždaug 80 % veikimo laiką – iki metų pabaigos siekiame 90 % – ir parodė vaizdavimo tikslumą, galintį pakeisti kelis įprastus modeliavimo etapus vienu High-NA praėjimu.
Pasak Pieterso, šie skaičiai rodo, kad įrankiai yra paruošti gamintojams pradėti kvalifikaciją. Mašinos nėra pigios. Maždaug 400 milijonų JAV dolerių už vienetą – dvigubai daugiau nei ankstesnės EUV kartos kaina – jie sudaro vieną brangiausių kapitalinių įrenginių pramonės istorijoje.
TSMC ir „Intel“ yra tarp įvardytų ankstyvųjų naudotojų.
Dvejų ar trejų metų kilimo ir tūpimo takas
Techninis pasirengimas ir gamybos integracija yra du skirtingi dalykai, ir Pieters rūpinosi juos atskirti. Nepaisant šio etapo, tikimasi, kad visiška integracija į didelės apimties gamybos linijas užtruks dvejus ar trejus metus, nes lustų gamintojai tobulina kvalifikaciją ir plėtoja procesus.
„Lustų gamintojai turi visas žinias, kad galėtų kvalifikuoti šiuos įrankius“, – sakė jis. Tai reiškia pasitikėjimą pramonės gebėjimu judėti, net jei laiko juosta ir lieka išmatuota.
Naujos kartos lusto našumo patobulinimai yra horizonte, bet dar nepriimti. Tačiau ASML pareiškus, kad startinis ginklas iššovė, lenktynės dėl High-NA EUV integravimo į gamybą oficialiai prasidėjo.
(ASML nuotrauka)
Taip pat žiūrėkite: 2025 m. AI lustų karai: ką įmonių vadovai sužinojo apie tiekimo grandinės realybę
Norite daugiau sužinoti apie AI ir didelius duomenis iš pramonės lyderių? Peržiūrėkite „AI & Big Data Expo“, vykstančią Amsterdame, Kalifornijoje ir Londone. Išsamus renginys yra TechEx dalis ir vyksta kartu su kitais pagrindiniais technologijų renginiais. Norėdami gauti daugiau informacijos, spustelėkite čia.
AI naujienas teikia TechForge Media. Čia rasite kitus būsimus įmonių technologijų renginius ir internetinius seminarus.
